ВЛИЯНИЕ ПОТЕНЦИАЛА СМЕЩЕНИЯ НА СТРУКТУРУ И МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОКРЫТИЙ Ti – Al – C – N ВЛИЯНИЕ ПОТЕНЦИАЛА СМЕЩЕНИЯ НА СТРУКТУРУ И МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОКРЫТИЙ Ti – Al – C – N

1. И.М. Климович, 1. В.А. Зайков, 1. Ф.Ф. Комаров, 1,2. А.К. Кулешов, 1. Л.В. Баран

1. Белорусский государственный университет
2. Институт прикладных физических проблем им. Севченко
г. Минск, Республика Беларусь

Исследовано влияние потенциала смещения подложки на состав, структуру и коэффициент трения наноструктурных покрытий Ti – Al – C – N. Установлено, что с ростом потенциала смещения происходит уменьшение соотношения между интенсивностями рефлексов I(111)/I(200). При увеличении потенциала смещения от –90 до –200 В структура покрытия изменяется от столбчатой к мелкозернистой. Обнаружено, что наименьший коэффициент трения соответствует покрытию, осажденному при напряжении смещения –150 В.
Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, растровая электронная микроскопия, атомно-силовая микроскопия, рентгеноструктурный анализ, трение

E-mail: imklimovich@gmail.com

1. Структура и свойства твердых и сверхтвердых нанокомпозитных покрытий / А. Д. Погребняк [и др.] // Успехи физичесих наук. – 2009. – T. 179. – № 1. – С. 35–64.
2. Structure and Strength Effects in CVD Titanium Carbide and Titanium Nitride Coatings / W. Schintlmeiste [et. al.] // J. EIectrochem. Soc.: Solid-state science and technology. – 1976. – V.23. – No 6. – P. 924–929.
3. Effect of Al content on structure and properties of TiAlCN coatings prepared by magnetron sputtering / Xuhai Zhang [et. al.] // Journal of Alloys and Compounds. 2014. No 617. P. 81 85.
4. Structure evolution and properties of TiAlCN/VCN coatings deposited by reactive HIPIMS / Hovsepian P. Eh. [et. al.] // Surface & Coatings Technology. 2014. – No 257. P. 38–47
5 Система контроля расхода газов для применения в технологии реактивного магнетронного распыления / И.М. Климович [и др.] // Приборы и методы измерений. – 2015. – Т.6. – № 2. – С. 139–147.
6. Burmakov, A.P. Spectroscopic system for controlling gas flow and impurity content during magnetron deposition of films / A.P. Burmakov, V.N. Kuleshov // Journal of Applied Spectroscopy. – 2007. – V. 74. – No 3. – P. 459−463.
7. Thornton, J.A. Influence of apparatus geometry and deposition conditions on the structure and topography of thick sputtered coatings/ J.A. Thornton // J. Vac. Sci. Technol. 1974. Vol. 11, No. 4. Р. 666–670.
8. Effects of substrate bias frequencies on the characteristics of chromium nitride coatings deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering / Lee Jyh-Wei. [et. al.] // Surface & Coatings Technology. – 2008. – V. 203. – P. 721−725.


Образец цитирования для русскоязычных изданий:
Влияние потенциала смещения на структуру и механические свойства покрытий Ti – Al – C – N / И. М. Климович [и др.] // Современные методы и технологии создания и обработки материалов : сб. научных трудов. В 3 кн. Кн. 2. Технологии и оборудование механической и физико-технической обработки/ редкол.: А. В. Белый (гл. ред.) [и др.]. — Минск: ФТИ НАН Беларуси, 2018. — С. 139–145.

Образец цитирования для международных изданий:
Klimovich I. M., Zaikov V. A., Komarov F. F., Kuleshov A. K., Baran L. V. Vliyanie potenciala smeshcheniya na strukturu i mekhanicheskie svojstva pokrytij Ti – Al – C – N[Influence of bias potential on the structure and mechanical properties of Ti – Al – C – N coatings] / Sovremennye metody i tekhnologii sozdaniya i obrabotki materialov [Advanced Methods and Technologies of Materials Development and Processing]. Collection of scientific papers, Minsk, FTI NAN Belarusi [PTI NAS Belarus], A.V. Byeli (ed.), 2017, vol. 2, pp. 139–145. (in Russian)

СКАЧАТЬ СТАТЬЮ